掩模對準曝光機是指通過(guò)開(kāi)啟燈光發(fā)出UVA波長(cháng)的紫外線(xiàn)，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質(zhì)的表面上的機器設備。該儀器可廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)。

 

　　技術(shù)數據：

　　掩模對準曝光機以其多功能性和可靠性而著(zhù)稱(chēng)，在小的占位面積上結合了先進(jìn)的對準功能和優(yōu)化的總體擁有成本，提供了先進(jìn)的掩模對準技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具，可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿(mǎn)足大批量生產(chǎn)要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件，短的掩模和工具更換時(shí)間以及高效的球服務(wù)和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。

　　該儀器或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統配備了集成的振動(dòng)隔離功能，可在各種應用中實(shí)現出色的曝光效果，例如，對薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光，對深腔進(jìn)行構圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進(jìn)行加工。此外，半自動(dòng)和全自動(dòng)系統配置均支持EVG專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)。

　　產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　1、高清彩色雙顯示屏；

　　2、設備穩定性，耐用性超高；

　　3、操控手柄調控模式的*設計；

　　4、抗衍射反射的高效光學(xué)光路設計；

　　5、可選支持單面對準和雙面對準設計；

　　6、帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器；

　　7、采用LED穿透物鏡照明技術(shù)，具有*對準亮度；

　　8、采用基于無(wú)限遠修正的顯微鏡鏡頭架構；

　　9、具有自動(dòng)執行楔形誤差補償，并在找平后自動(dòng)定位功能；

　　10、操作簡(jiǎn)易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；

　　11、全新氣動(dòng)軸承導軌設計，高jīng準，低磨損，無(wú)需售后維護的；

　　12、高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場(chǎng)顯微鏡鏡頭；雙頭高清全彩物鏡。