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硅片厚度測量?jì)x測量原理是什么?有什么特性?

更新時(shí)間:2024-11-26  |  點(diǎn)擊率:2031
  硅片厚度測量?jì)x采用的這種紅外干涉技術(shù)具有*優(yōu)勢,諸多材料例如,Si,GaAs,InP,SiC,玻璃,石英以及其他聚合物在紅外光束下都是透明的,非常容易測量,標準的測量空間分辨率可達50微米,更小的測量點(diǎn)也可以做到。

    測試原理:
  硅片厚度測量?jì)x采用機械接觸式測量原理,截取一定尺寸的式樣;通過(guò)控制面板按鈕,調節測量頭降落于式樣之上;依靠?jì)蓚€(gè)接觸面產(chǎn)生的壓力和兩接觸面積通過(guò)傳感器測得的數值測量材料的厚度。

  產(chǎn)品特點(diǎn):
  1、硅片厚度測量?jì)x支持自動(dòng)和手動(dòng)兩種測量模式,方便用戶(hù)自由選擇。
  2、配置標準量塊用于系統標定,保證測試的精度和數據一致性。
  3、微電腦控制系統,大液晶顯示、PVC操作面板,方便用戶(hù)進(jìn)行試驗操作和數據查看。
  4、嚴格按照標準設計的接觸面積和測量壓力,同時(shí)支持各種非標定制。
  5、測試過(guò)程中測量頭自動(dòng)升降,有效避免了人為因素造成的系統誤差。
  6、系統自動(dòng)進(jìn)樣,進(jìn)樣步距、測量點(diǎn)數和進(jìn)樣速度等相關(guān)參數均可由用戶(hù)自行設定。
  7、系統支持數據實(shí)時(shí)顯示、自動(dòng)統計、打印等許多實(shí)用功能,方便快捷地獲取測試結果。
  8、標準的USB接口,便于系統與電腦的外部連接和數據。
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