光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機，電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開(kāi)光科技束。如今的世界是一個(gè)信息社會(huì )，各種各樣的信息流在世界流動(dòng)。而光刻機是保證制造承載信息的載體。在社會(huì )上擁有不可替代的作用。
光刻機就是把芯片制作所需要的線(xiàn)路與功能區做出來(lái)。利用光刻機發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì )發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線(xiàn)路圖的作用。
這就是光刻機的作用，類(lèi)似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。
光刻機技術(shù)是一種精密的微細加工技術(shù)。常規光刻技術(shù)是采用波長(cháng)為2000～4500埃的紫外光作為圖像信息載體，以光致抗光刻技術(shù)蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實(shí)現圖形的變換、轉移和處理，然后把圖像信息傳遞到晶片（主要指硅片）或介質(zhì)層上的一種工藝。
在廣義上，光刻機包括光復印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面：
1、光復印工藝：經(jīng)曝光系統將預制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光致抗蝕劑薄層上；
2、刻蝕工藝：利用化學(xué)或物理方法，將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質(zhì)層除去，從而在晶片表面或介質(zhì)層上獲得與抗蝕劑薄層圖形一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的，因而光刻工藝總是多次反復進(jìn)行。例如，大規模集成電路要經(jīng)過(guò)約10次光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。
