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EVG使用300mm晶圓光刻機制造MEMS透鏡

更新時(shí)間:2023-02-20  |  點(diǎn)擊率:2909

  奧地利EV GroupEVG)宣布,為形成手機用相機模塊高耐熱鏡頭,芬蘭Heptagon Oy采用了EVG的光刻機(Mask Aligner)“IQ Aligner"。EVG高級副總裁Hermann Waltl表示,Heptagon采用的是支持300mm晶圓的裝置。該裝置已提供給Heptagon的制造子公司——新加坡Heptagon Micro-Optics Pte。

      Heptagon是于1993年成立的風(fēng)險企業(yè),目的是將芬蘭赫爾辛基大學(xué)與瑞士約恩蘇大學(xué)的微型光學(xué)元件的研究成果投入實(shí)用。該企業(yè)是wei一一家采用MEMS技術(shù)以低成本量產(chǎn)高耐熱透鏡的廠(chǎng)商,作為手機用透鏡,在2006年由芬蘭諾基亞采用的意法半導體(STMicroelectronics)相機模塊上應用,用于UXGA1600×1200像素)分辨率以下的固定焦點(diǎn)型相機模塊。

      采用MEMS技術(shù)以低成本制造的高耐熱透鏡是由玻璃底板與高耐熱樹(shù)脂混合構造而成,使用石英及硅膠等透明材料,在玻璃晶圓的兩面,一次形成了環(huán)氧類(lèi)紫外線(xiàn)硬化樹(shù)脂結構。Heptagon目前已開(kāi)始采用200mm玻璃晶圓生產(chǎn)透鏡。

      意法半導體于09年開(kāi)始生產(chǎn)晶圓級相機模塊,該模塊可以晶圓級組裝焦點(diǎn)型相機模塊所有部件。意法半導體正在著(zhù)手在已形成圖像傳感器的300mm晶圓上生成貫通電極的量產(chǎn)。此次通過(guò)建立Heptagon300mm晶圓供應高耐熱透鏡的體系,意法半導體很有可能采用300mm晶圓生產(chǎn)出晶圓級相機模塊。



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