在科研、工業(yè)生產(chǎn)及質(zhì)量控制等領(lǐng)域,薄膜厚度的精確測量至關(guān)重要。Thetametrisis光學(xué)厚度測量?jì)x以其高精度、高效率及多功能性,成為薄膜厚度測量的選擇工具。本文將詳細介紹它的主要特征,以展現其在薄膜測量領(lǐng)域的杰出性能。
Thetametrisis
光學(xué)厚度測量?jì)x的核心技術(shù)在于白光反射光譜(WLRS),該技術(shù)能夠在從幾埃到幾毫米的超寬范圍內,準確而同時(shí)地測量堆疊的薄膜和厚膜的厚度及折射率。這一特性使得儀器在測量多層薄膜結構時(shí)具有顯著(zhù)優(yōu)勢,能夠準確解析各層薄膜的厚度和光學(xué)常數。
在測量方式上,該儀器采用了先進(jìn)的旋轉平臺和光學(xué)探頭直線(xiàn)移動(dòng)掃描技術(shù),實(shí)現了對晶圓片或其他基片涂層的高精度、高速度測量。通過(guò)極坐標掃描,該儀器能夠在極短的時(shí)間內記錄具有高重復性的反射率數據,大大提高了測量效率。
此外,儀器還具備豐富的功能特性。它支持單點(diǎn)分析和動(dòng)態(tài)測量,能夠實(shí)時(shí)獲取薄膜的厚度、折射率、顏色等光學(xué)參數。同時(shí),儀器內置了600多種預存材料數據庫,方便用戶(hù)快速選擇并匹配被測材料,提高了測量的準確性和便捷性。
在安全性方面,儀器采用了防靜電噴涂鋼板和304不銹鋼面板,確保了儀器的穩定性和耐用性。同時(shí),儀器還配備了USB 2.0/3.0通訊接口,方便用戶(hù)與計算機或其他設備進(jìn)行數據傳輸和遠程操作。

綜上所述,Thetametrisis光學(xué)厚度測量?jì)x以其高精度、高效率、多功能性及安全性等顯著(zhù)特征,在薄膜厚度測量領(lǐng)域展現出了杰出的性能。無(wú)論是科研實(shí)驗還是工業(yè)生產(chǎn),該儀器都能為用戶(hù)提供可靠的測量數據和高效的測量體驗。