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白光干涉儀

簡(jiǎn)要描述:白光干涉儀廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。

  • 產(chǎn)品型號:Nano X-2000S
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:
  • 更新時(shí)間:2024-11-09
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量: 6435

詳細介紹

白光干涉儀介紹:

NanoX-2000/3000系列、3D光學(xué)白光干涉儀建立在移相干涉測量(PSI)、白光垂直掃描干涉測量(VSI)和單色光垂直掃描干涉測量(CSI)等技術(shù)的基礎上,以其納米級測量準確度和重復性(穩定性)定量地反映出被測件的表面粗糙度、表面輪廓、臺階高度、關(guān)鍵部位的尺寸及其形貌特征等。廣泛應用于集成電路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技術(shù)、材料、太陽(yáng)能電池技術(shù)等領(lǐng)域。

       白光干涉儀產(chǎn)品優(yōu)勢: 
  1、美國硅谷研發(fā)的核心技術(shù)和系統軟件。
  2、關(guān)鍵硬件采用美國、德國、日本等。
  3、PI納米移動(dòng)平臺及控制系統。
  4、Nikon干涉物鏡。
  5、NI信號控制板和Labview64 控制軟件。
  6、TMC光學(xué)隔振臺。
  7、測量準確度重復性達到不錯的水平(中國計量科學(xué)研究院證書(shū))。
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  白光干涉儀使用時(shí)需要注意以下幾個(gè)方面的問(wèn)題:
  1、環(huán)境條件:對環(huán)境光線(xiàn)和振動(dòng)非常敏感,因此在使用時(shí)需要在低光照和無(wú)振動(dòng)的環(huán)境中操作,最好在光學(xué)實(shí)驗室等特殊環(huán)境中使用。
  2、樣品準備:在放置樣品之前,需要確保樣品表面干凈、平整,避免雜質(zhì)或污垢影響測量結果。
  3、對準調節:在使用白光干涉儀進(jìn)行測量之前,需要精確對準儀器并調節焦距,以確保能夠獲得清晰、準確的干涉圖像。
  4、操作注意:操作時(shí)要小心移動(dòng)和調節儀器部件,避免碰撞或損壞儀器;同時(shí)注意調節干涉儀的參數和光源強度,以獲得最佳的測量結果。
  5、結果分析:在獲得干涉圖像后,需要對結果進(jìn)行分析和解釋?zhuān)源_定樣品表面的形狀和質(zhì)量,同時(shí)注意誤差的可能來(lái)源并進(jìn)行修正。
 

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