硅片厚度的測量方法也有多種，常見(jiàn)的包括：
1、光學(xué)顯微鏡法：通過(guò)光學(xué)顯微鏡觀(guān)察硅片的表面，利用尺度刻度或者測距尺來(lái)測量硅片的厚度。
2、原子力顯微鏡法：利用原子力顯微鏡對硅片表面進(jìn)行掃描，可以直接測量硅片的厚度。
3、橢偏測量法：利用硅片對偏振光的旋光效應，通過(guò)測量光的偏振態(tài)變化來(lái)確定硅片厚度。
4、X射線(xiàn)熒光光譜法：通過(guò)X射線(xiàn)熒光光譜儀測量硅片的元素成分，從而間接推斷硅片的厚度。
5、激光測量法：利用激光測量?jì)x器對硅片表面進(jìn)行掃描，通過(guò)測量激光的反射或散射來(lái)確定硅片的厚度。
6、超聲波測量法：通過(guò)超聲波測量?jì)x器對硅片進(jìn)行超聲波傳播速度的測量，從而計算硅片的厚度。
不同的方法適用于不同的硅片厚度范圍和精度要求，具體選擇取決于實(shí)際需求和實(shí)驗條件。
滿(mǎn)足薄膜厚度范圍從15nm到3mm的先進(jìn)厚度測試系統 F3-sX家族利用光譜反射原理，可以測試眾多半導體及電解層的厚度，可測最大厚度達3毫米。此類(lèi)厚膜，相較于較薄膜層表面較粗糙且不均勻，F3-sX系列配置10微米的測試光斑直徑因而可以快速容易的測量其他膜厚測試儀器不能測量的材料膜層。而且能在幾分之一秒內完成。
波長(cháng)選配
F3-sX采用的是近紅外光(NIR)來(lái)測量膜層厚度，因此可以測試一些肉眼看是不透明的膜層( 比如半導體膜層) 。980nm波長(cháng)型號，F3-s980，專(zhuān)門(mén)針對低成本預算應用。F3-s1310針對于高參雜硅應用。F3-s1550則針對較厚膜層設計。
測量原理為何？
FILMeasure分析-薄膜分析的標準部件
可選配件
選擇Filmetrics的優(yōu)勢
桌面式薄膜厚度測量；
24小時(shí)電話(huà)，郵件和在線(xiàn)支持；
所有系統皆使用直觀(guān)的標準分析軟件；
附加特性
嵌入式在線(xiàn)診斷方式；
免費離線(xiàn)分析軟件；
精細的歷史數據功能，幫助用戶(hù)有效地；
存儲，重現與繪制測試結果；
應用
Si晶圓厚度測試；
保形涂層；
IC 芯片失效分析；
厚光刻膠(比如SU-8光刻膠)。
產(chǎn)品型號：Filmetrics F3-sX